SciDre 高温高压光学浮区炉

   德国SciDre公司推出的高温高压光学浮区炉能够提供2200–3000℃以上的生长温度，晶体生长腔可最大压力可达300Bar，甚以及10 ^-5 mBar的高真空。适用于生长各种超导材料单晶，介电和磁性材料单晶，氧化物及金属间化合物单晶等。

耐高温、耐高压、高真空、高透光率、拆装简便、带样品污染保护的石英样品腔

由德国弗劳恩霍夫应用光学和精密工程研究所优化设计的高反射率镜面，镜体位置和角度可由高精度步进马达控制调节

光阑式光强控制器

   更方便地调节熔区温度，延长灯泡寿命

仿真化触屏控制软件，界面友好，操作简单

  熔区测温选件专利测温技术

可探测熔区和料棒的温度梯度

多路独立气路控制选件   可控制N ₂ 、O ₂ 、Ar、空气等其他的流量和压力， 并可对气体进行比例混合与熔区进行反应

气体除杂选件

可使高压氩气中的氧含量达到10 ^-12ppm

退火选件

可对离开熔区的单晶棒提供最高1100℃退火温度和高压氧环境并可定制退火温度梯度

熔区温度

最高 2000 - 3000 ℃以上

熔区压力

最大 10 、 50 、 100 、 150 、 300 bar 可选

熔区真空

1*10 -2 mbar 或 1*10 -5 mbar 可选

熔区气氛

Ar 、 O ₂ 、 N ₂ 等可选

气体流量

0.25 – 1 L/min 流量可控

氙灯功率

3kW 至 15kW 可选

料棒台尺寸

6.8mm 或 9.8mm 可选

拉伸速率

0.1-200 mm/h

调节速率

0.6 mm/s

拉伸尺寸

最大 195mm

旋转速率

0-150 rpm

用电功率

400V 三相 63A 50Hz

水冷功率

大于 8kW

主机尺寸

302cm*163cm*92cm