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脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统

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      薄膜制备领导者
     

    BlueWave是一家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是最理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。

    1、脉冲激光沉积系统

    产品特点：
    • 超高真空不锈钢腔体
    •可集成热蒸发源或溅射源
    •可旋转的耐氧化基片加热台
    •流量计或针阀精确控制气体流量
    •标准真空计
    •干泵与分子泵
    •可选配不锈钢快速进样室
    •可选配基片-靶材距离自动控制系统
    •是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的最佳设备
     
     
    2、物理气相沉积系统（Physical Vapor Deposition Plus ）
    产品特点
    •     超高真空不锈钢腔体       • 电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成
    • 独立衬底加热，可旋转
    • 多量程气体流量控制器
    • 标准气压计
    • 机械、分子、冷凝真空泵   • 可选不锈钢快速进样室
    • 衬底和源距离可控
    • 可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

       
    3、热化学气相沉积系统（TCVD）
    产品特点
    • 高温石英管反应器设计
    • 温度范围：室温到1100度
    • 多路气体精确控制
    • 标准气压计
    • 易于操作
    • 可配机械泵实现低压TCVD   • 可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜
    • 液体前驱体喷头
    • 2英寸超大完美温度均匀区
     
    4、热丝化学气相沉积系统（HFCVD）
    产品特点：
    • 水冷不锈钢超高真空腔
    • 热丝易安装、更换 
    • 4个不同量程气体控制器
    • 标准气压计
    • 衬底与热丝距离可调节
    •2 英寸衬底加热、可旋转 
    • 完美制备金刚石和石墨烯 
    		 

     

        
    5、薄膜/涂层制备服务
     
    产品特点 
    • 为您制备您所需的薄膜或涂层，避免您在设备或制备过程上的投资。
    • 快速实现您的科研设想
    • 庞大的备选材料库，选择最适合您的材料
    • 多种薄膜制备手段可供选择，包括：PLD、电子束蒸发、热蒸发、Hot Filament CVD、MOCVD
    无论您需要绝缘涂层、透明涂层、金属薄膜或顶电极我们广阔的材料库均能满足您的需求。我们还为您提供特殊的涂层定制服务。
    我们有超过20年的镀膜经验，我们已与多所大学与国家实验室合作，成为镀膜服务行业的领导者。
     

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