微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD

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微波等离子化学气相沉积系统 -MPCVD

-----宝石级大尺寸单晶金刚石制备系统

微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。

MPCVD 是世界公认的制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国 iplas 公司专利的 CYRANNUS ^® 等离子技术解决了传统等离子技术的局限，可以在 10mbar 到室压范围内激发高稳定度的等离子团，最大限度的减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化，从而确保单晶生长的持续性，为合成大尺寸单晶金刚石提供有力保证。

iplas CYRANNUS ^® 系列 产品特点：

1. CYRANNUS ® 技术无需在样品腔内安装内部电极，在沉积腔内，没有工作气体以外的任何物质，洁净，无污染源。等离子发生器可以保持长寿命，并可以确保腔内的等离子体的均匀分布，进一步生成晶体的纯净度和生长周期。
2. CYRANNUS ^® 技术的腔外多电极设置，确保等离子团稳定生成于腔内中心位置，对腔壁、窗口等无侵蚀作用，减少杂质来源，提高晶体纯度。由 CYRANNUS ^® 系统合成的金刚石，纯度均在VVS级别以上。
3. 电子温度和离子温度对中性气体温度之比非常高，运载气体保持合适的温度，因此可使基底的温度不会过高。

4. 微波发生器稳定易控，能在从10mbar到室压的高压强环境下维持等离体，在气流、气压、气体成分、电压出现波动时，确保等离子体状态的稳定，保证单晶生长的过程不被上述干扰而中断，有利于获得大尺寸单晶金刚石。

5. 可以采用磁约束的方法，约束在等离子团在约定的空间内，微波结和磁路可以兼容。

6. 安全因素高。高压源和等离子体发生器互相隔离，微波泄漏小，容易达到辐射安全标准。

7.可搭配多种功率微波源和不同尺寸腔体，满足从实验室小型设备到工业大型装置的不同需要。最大可以对300mm直径的衬底沉积金刚石薄膜。

化学机理概要：

碳氢化合物：提供沉积材料

氢气：生成sp ³键

氧：对石墨相/sp ²键侵蚀

惰性气体：缓冲气体，或生成纳米晶体。

适用合成材料：

大尺寸宝石级单晶钻石

高取向度金刚石晶体

纳米结晶金刚石

碳纳米管/类金刚石碳（DLC）

金刚石薄膜

宝石级钻石

vvs1,~1 carrat, E grade

多种等离子发生器选择：频率：2.45GHz, 915MHz: 功率：1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW，5-30kW 等离子团直径：70mm, 145mm, 250mm, 400mm 工作其他范围：0-1000mBar
		其他应用： MPCVD同样适用于平面基体，或曲面颗粒的其它硬质材料如Al ₂O₃，c-BN的薄膜沉积和晶体合成。德国 iplas 公司凭借几十年在等离子技术领域的积累，可以为用户提供高度定制的设备，满足用户不同的应用需要。