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小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。
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传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商
提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。
无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法，克服了
这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光
直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接
曝光绘出所要的图案。
Microwriter ML 3 是一款多功能激光直写光刻系统，具有
结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩膜直写系统的灵
活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设
计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌
面。
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产品特点
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Focus Lock
自动对焦功能
Focus lock
技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过
Z
向调整和补偿，以保证曝光分辨率。
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光学轮廓仪
Microwriter ML3
配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，
MEMS
等前道结构的形貌探测与套刻。
Z
向最高精度
100 nm
，方便快捷。
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标记物自动识别
点击“
Bulls-Eye”
按钮，
系统自动在
显微镜图像中识别光刻
标记。标记
物被识别后，将
自动将其移动
到显微镜中心位置。
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别直写前预检查
软件可以实时
显微观测基体
表面，并显示
预直写图形
位置。通过实时调整
位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构
重合，保证直写准确。
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简单的直写软件
MicroWriter
由
一个简单直观的
Windows
界面软件控制
。工具栏
会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在
Windows10
系统下
运行
。
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Clewin
掩模图形设计
软件
•
可以读取多种
图形设计
文件（
DXF, CIF, GDSII, 等
）
•
可以
直接
读取
TIFF, BMP
等
图片
格式
•
书写范围只由基片尺寸决定
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产品参数
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Microwriter ML3
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基本型
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增强型
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旗舰型
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最大样品尺寸
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155×155×7mm
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155×155×7mm
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230×230×15mm
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最大直写面积
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149mm x 149mm
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149mm x 149mm
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195mm x 195mm
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曝光光源
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405 nm LED 1.5W
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405 nm LED 1.5W
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385 nm LED 适用于SU-8
（365+405nm双光源可选）
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直写分辨率
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1μm
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1μm and 5 μm
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0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
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直写速度
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20
mm
2
/m
in @ 1μm
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2
0mm
2
/min @ 1μm
120mm
2
/
min @ 5μm
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25mm
2
/min @ 0.6μm
50mm
2
/min @ 1μm
100mm
2
/min @ 2μm
1
80mm
2
/min @ 5μm
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对准显微镜镜头
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x10
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x3 and x10 自动切换
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x3, x5, x10, x20 自动切换
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多层套刻精度
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±1μm
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±1μm
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±0.5μm
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最小栅格精度
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200nm
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200nm
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100nm
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样品台最小步长
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100nm
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100nm
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50nm
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光学轮廓Z分辨率
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无(可升级)
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300nm
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100nm
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样品表面自动对焦
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是
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是
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是
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灰度直写(255级)
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是
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是
|
是
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自动晶片检查工具
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无(可升级)
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有
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有
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温控样品腔室
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无 (可升级)
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无 (可升级)
|
有
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虚拟模板校准工具
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无(可升级)
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无(可升级)
|
有
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气动减震光学平台
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无(可升级)
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无(可升级)
|
有
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应用案例
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直写分辨率1μm
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直写分辨率0.6μm
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微电极制备
光刻胶上的图形 Au电极（SEM）
Au电极（SEM）
  
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设计图
光刻胶上的图形 放大图的显微结构
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微结构制备
 
 
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微流通道制备
 
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